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GC-7820 氦離子化氣相色譜儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

GC-7820 氦離子化氣相色譜儀,配置PDHID檢測器、采用多閥多柱、二維中心切割與反吹技術(shù)、具有吹掃保護氣路的進(jìn)樣切換閥和進(jìn)口氦氣純化器等核心技術(shù),特別適合適用于氫、氧、氬、氮、氦、二氧化碳等高純氣體、超高純氣體及空分裝置中常見(jiàn)的雜質(zhì)痕量檢測分析,能夠檢測至ng/(ppb)級。

產(chǎn)品型號:
更新時(shí)間:2024-10-16
廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
訪(fǎng)問(wèn)量:453
  • 產(chǎn)品概述

    GC-7820 氦離子化氣相色譜儀,配置PDHID檢測器、采用多閥多柱、二維中心切割與反吹技術(shù)、具有吹掃保護氣路的進(jìn)樣切換閥和進(jìn)口氦氣純化器等核心技術(shù),特別適合適用于氫、氧、氬、氮、氦、二氧化碳等高純氣體、超高純氣體及空分裝置中常見(jiàn)的雜質(zhì)痕量檢測分析,能夠檢測至ng/(ppb)級。

    產(chǎn)品特點(diǎn)

    儀器管路經(jīng)鈍化處理,零死體積管路設計,等特殊工藝保證了系統的惰性,可靠性更高,使用壽命更長(cháng)

    進(jìn)樣預處理系統和切換閥均采用帶吹掃保護氣路的進(jìn)口自動(dòng)閥,可防止空氣混入、提高系統的密閉性

    配置氣體分離專(zhuān)用微填充柱和高效毛細管柱,配合分離預切再分離技術(shù),實(shí)現樣品更高分離度

    采用了10/100M自適應以太網(wǎng)接口,實(shí)現全網(wǎng)絡(luò )反控,工作站界面簡(jiǎn)單,數據處理功能強大。

    采用成熟的多閥多柱,中心切割和反吹技術(shù),國際成熟的設計工藝,穩定可靠的高純氣體分析色譜技術(shù)解決方案

    xq

    氦離子檢測器

    技術(shù)參數

    ◆溫控系統

    柱箱溫度范圍:室溫+5℃~450℃

    溫度設定精度:0.01℃

    溫控數量:8路獨立控溫系統

    程序升溫速度:0.1~40℃/min

    智能后開(kāi)門(mén):進(jìn)出風(fēng)量無(wú)級可調

    降溫速度:從350℃降至50℃<7min

    程序升溫階數:16階(可擴展)

    最長(cháng)一次運行時(shí)間:999.99min

    ◆進(jìn)樣系統

    控制方式:壓力/流量控制

    流量:氣體流量為1000SCCM

    靈敏度:0.01SCCM

    輸出偏移量(精度):±5%

    分流比:5000:1

    電磁閥:高速切換電磁閥壽命長(cháng)(10mS,100萬(wàn)次)

    進(jìn)樣閥:可搭載多個(gè)進(jìn)口自動(dòng)控制閥,可自動(dòng)序列運行

    ◆檢測器及純化器系統

    檢測氣體類(lèi)型:H2、Ar、O2、N2、CH4、CO、CO2等

    放電模式:脈沖放電

    基線(xiàn)噪聲:≤0.05mv

    基線(xiàn)漂移:≤0.2mv/30min

    檢測限:10ppb(甲烷)

    重復性:RSD≤3%

    可純化氣體:He、Ar、Ne、Kr、Xe等

    操作壓力:1000Psi

    去除氣體:H2、O2、N2、CO、CO2、CH4、H2O、NO、NH3等

    殘留濃度:≤10ppb

    檢測指標

    雜質(zhì) H2 O2 N2 CO CH4 CO2 C2H2 C2H4 C2H6 N2O等
    PPB 10 10 15 25 10 10 10 10 10 20

    適用標準

    GB/T 16942-2009《電子工業(yè)用氣體 氫》 GB/T 16943-2009《電子工業(yè)用氣體 氦》

    GB/T 16944-2009《電子工業(yè)用氣體 氮》 GB/T 16945-2009《電子工業(yè)用氣體 氬》

    GB/T 14604-2009《電子工業(yè)用氣體 氧》 GB/T 14601-2009《電子工業(yè)用氣體 氨》

    GB/T 15909-2009《電子工業(yè)用氣體 硅烷》 GB/T 18994-2003《電子工業(yè)用氣體 高純氯》

    GB/T 14851-93《電子工業(yè)用氣體 》 GB/T 14603-2009《電子工業(yè)用氣體 》

    GB/T 28125.1-2011《空分工藝中危險物質(zhì)的測定》

    典型譜圖

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